YKY
Система анализа кислорода
Система анализа кислорода В системе анализа кислорода используются импортные специальные материалы, которые эффективно поглощают токсичные компоненты в анализируемом газе и отправляют их во взрывозащищенный датчик кислорода, обеспечивая тем самым срок службы и точность взрывозащищенного датчика кислорода. Пользователь может управлять соответс..
Система вакуумного магнетронного распыления
Система вакуумного магнетронного распыления используется для изготовления новых тонкопленочных материалов, таких как нанометровая однослойная и многослойная функциональная пленка, твердая пленка, металлическая пленка, полупроводниковая пленка и диэлектрическая пленка. Его можно широко использовать в исследованиях и производстве тонкопленочных матер..
Система двойного прядения и прядения из нановолокна CY-NFES-SYS
Система двойного прядения и прядения нановолокон известна как один из наиболее эффективных и удобных методов производства волокон нанометрового масштаба. Эти нанометрические волокна демонстрируют несколько замечательных характеристик, таких как большое отношение площади поверхности к объему, высокая пористость, гибкость в функциональности пове..
Система индукционного нагрева мощностью 15 кВт с кварцевой трубкой 8,5 дюйма и регулятором температуры до 2000 ℃ CY-85KTC
Система индукционного нагрева мощностью 15 кВт с кварцевой трубкой 8,5 дюйма и регулятором температуры до 2000 ℃ CY-85KTC CY-85KTC - это более крупная система индукционного нагрева / плавления с регулируемой температурой и полным комплектом принадлежностей, включая индукционный нагреватель мощностью 15 кВт, кварцевую трубку с внешним диаметром 8,5..
Система индукционного нагрева мощностью 25 кВт (30-80 кГц) с таймером CY-SP-25
Система индукционного нагрева мощностью 25 кВт (30-80 кГц) с таймером CY-SP-25 Индукционный нагреватель CY-SP-25 оснащен новейшей инвертирующей технологией, что делает его легким и удобным. Его индукционный нагреватель мощностью 25 кВт разработан для лаборатории по исследованию материалов, чтобы быстро плавить и выполнять термическую обработк..
Система индукционного нагрева мощностью 25 кВт с регулятором температуры до 1700 ℃ CY-11KTC
Система индукционного нагрева мощностью 25 кВт с регулятором температуры до 1700 ℃ CY-11KTC CY-11KTC - это более крупная система индукционного нагрева / плавления с регулируемой температурой и полным комплектом принадлежностей, в том числе индукционный нагреватель мощностью 25 кВт, кварцевая трубка с наружным диаметром 11 дюймов с шарнирными фланц..
Система индукционного нагрева мощностью 35 кВт (30-80 кГц) с таймером CY-SP-30
Система индукционного нагрева мощностью 35 кВт (30-80 кГц) с таймером CY-SP-30 Индукционный нагреватель CY-SP-30 оснащен новейшей инвертирующей технологией, что делает его легким и удобным. Его индукционный нагреватель мощностью 30 кВт разработан для лаборатории исследования материалов, чтобы быстро плавить и выполнять термическую обработку м..
Система индукционной плавки с несколькими камерами мощностью 15 кВт для исследования сплавов с высокой производительностью CY-50KTC-M
Система индукционной плавки с несколькими камерами мощностью 15 кВт для исследования сплавов с высокой производительностью CY-50KTC-M - это система индукционной плавки с регулируемой температурой с несколькими полостями, которая может плавить и затвердевать многосплавный стержень диаметром 5-8 мм с различным составом до 2000 ° C. Это идеальный инс..
Система нанесения покрытия с рулона на рулон с сушильной камерой для электродов батареи
Ролл с валиком системы покрытия является автоматической батареей электрода системы покрытия с компактностью , который меньше , чем 6'x3' . Он использует технику нанесения покрытия для лучшей однородности покрытия и идеально подходит для исследований или создания прототипов (например, экспериментальных и..
Система перчаточного ящика с литиевой батареей
Принцип работы перчаточного ящика циркуляционной очисткиКоробка операционного блока и система очистки циркуляционного газа образуют тесное рабочее пространство. Сначала в шкаф вводится инертный газ (например, аргон или азот), чтобы отогнать вредные компоненты (например, молекулы кислорода и молекулы воды) в шкафу. Этот процесс широко изве..
Система покрытия электронно-лучевым напылением
Система покрытия с электронно-лучевым напылением используется для изготовления проводящей пленки, полупроводниковой пленки, сегнетоэлектрической пленки, оптической пленки и т. Д. Она широко используется в колледжах и университетах, научно-исследовательских учреждениях и мелкосерийном производстве.Технические характеристики системы покрытия электрон..
Система распылительного пиролиза с высокой производительностью
Высокопроизводительная система распылительного пиролиза - это интеллектуальное оборудование для исследования материалов нового поколения на более высокой скорости для электродов батарей и перовскитных солнечных элементов. Пиролиз распылением - это процесс, при котором тонкая пленка осаждается путем распыления раствора на нагретую поверхность, где с..
Система сердечно-сосудистых заболеваний с плазменным усилением CY-PECVD-T01
Чтобы химическая реакция протекала при более низкой температуре, активность плазмы используется для ускорения реакции, и поэтому CVD называется химическим осаждением из паровой фазы (PECVD). Устройство для подготовки графеновой пленки PECVD ионизирует газ, содержащий атом, составляющий пленку, посредством высокочастотного излучения 13,56 МГц, ..
Система смешивания газов с регулятором массового расхода (MFC) для трубчатой печи CVD
Система газового контроля предназначена для контроля 1-4 типов газов, протекающих через вакуумные трубчатые печи при невысокой стоимости. Система газового контроля установлена в сверхмощной мобильной тележке, где трубчатая печь может быть размещена сверху. На передней панели системы расположены регулирующие клапаны и дисплеи расхода г..
Система термического испарения из четырех источников с точным регулятором температуры
Система термического испарения с четырьмя источниками подходит для покрытия большинства металлических и органических материалов пленкой размером до 2 дюймов от 200 ºC до 1500 ºC (или от 200 ºC до 1700 ºC с дополнительной термопарой типа B). получить более однородную пленку. Испарительная система имеет небольшие размеры, что позволяет эффективно эко..























