Система вакуумного магнетронного распыления

Конфигурация вакуумной системы

Составной молекулярный насос, механический насос, пневматический запорный клапан, импортный дроссельный клапан цилиндра SMC

Максимальное давление

≤6,6 * 10-6 Па (после запекания и дегазации)

Система восстановления вакуума

Он может достигать 6,6х10-4 Па за 25 минут (начать откачку после короткого пребывания на воздухе и наполнения сухим гелием).

Целевой блок магнетрона

Три набора постоянных магнитных мишеней; целевой размер диам. 60мм (один из них может использоваться для распыления ферромагнетиков); Радиочастотное распыление каждой мишени совместимо с распылением на постоянном токе. Водяное охлаждение внутри мишени; Центры образцов трех мишеней могут складываться вместе вверх. Расстояние между мишенью и образцом регулируется от 90 до 130 мм. Каждая мишень оснащена импортной поворотной пневматической перегородкой SMC.

Стол для нагрева одной подложки

Размер образца

диам. 4 дюйма

Режим движения

Подложка вращается непрерывно, скорость вращения 0-30 об / мин.

Обогрев

Нагревается импортной нагревательной проволокой, максимальная температура нагрева 600 ℃ ± 1 ℃

Формат боя

Импортное управление воздушным цилиндром SMC

Система газового контура

2-х контурный регулятор массового расхода

Компьютерная система управления

Полностью автоматизированное управление с помощью ПЛК + IPC + сенсорный экран

Дополнительные аксессуары

Измеритель толщины пленки, воздушный насос, циркуляционный насос охлаждающей воды

Площадь

Основной модуль

1000 × 1800 мм 2

Электрический шкаф

900 × 600 мм ²