Оборудование для нанесения покрытий методом химического осаждения из паровой фазы с плазменным покрытием PECVD CY-PECVD-450
- Плазменный очиститель
- Аккумуляторное R&D оборудование
- Аксессуары
- Атмосферная печь
- Вакуумная печь
- Газоанализатор
- Лабораторная мельница и смеситель
- Лабораторное оборудование для нанесения покрытий
- Лабораторный гидравлический пресс
- Лабораторный электроспиннинг
- Магнетронное напыление
- Машина для нанесения покрытий Doctor-Blade
- Муфельная печь
- Окунание
- Перчаточные боксы
- Печь для выращивания кристаллов
- Плавильная печь
- Режущая пила
- Система CVD
- Система распыления пиролиза
- Стоматологическая печь
- Трубчатая печь
- Установка для плазменного напыления
- Устройство для нанесения покрытий с термическим испарением
- Центрифугирование
- Шлифовально-полировальный станок
- Шприцевой насос
Ваша корзина покупок пуста!
Характеристики
- Вакуум (осаждение) 0,133 ~ 133 Па, регулируется в соответствии с процессом
- Вакуумная камера передняя открывающаяся дверь, φ300мм x 300мм, нержавеющая сталь смотровое окно: φ100 мм с перегородкой
- Мощность RF 13,56 МГц, 500 Вт (автоматическое согласование)
- Размеры 1100 мм x 800 мм x 1100 мм
- Управление потоком Массовый расходомер (Ar по умолчанию, 0 ~ 200 см3)
Описание товара
В машине для нанесения пленочного покрытия CY-PECVD-450 используется технология химического осаждения из газовой фазы, усиленная плазмой, которая может использовать высокоэнергетическую плазму для ускорения процесса реакции, эффективного увеличения скорости реакции и снижения температуры реакции.
Он подходит для нанесения тонких пленок нитрида кремния, аморфного кремния и микрокристаллического кремния на различные подложки, такие как оптическое стекло, кремний, кварц и нержавеющая сталь. Он имеет хорошее пленкообразующее качество, меньше проколов и не легко взламывается. Он подходит для изготовления тонкопленочных солнечных элементов из аморфного кремния и микрокристаллического кремния. Его можно широко использовать в научных исследованиях и подготовке небольших партий тонкопленочных материалов в колледжах, университетах и научно-исследовательских институтах.
Технические параметры оборудования для нанесения пленочного покрытия PECVD:
|
Модель |
CY-PECVD-450 |
|
Вакуумная камера |
передняя открывающаяся дверь, φ300мм x 300мм, нержавеющая сталь смотровое окно: φ100 мм с перегородкой |
|
Комплект вакуумного насоса |
Резервный насос: пластинчато-роторный насос скорость откачки: 1,1 л / с Вторичный насос: турбомолекулярный насос скорость откачки: 600 л / с |
|
Максимальный вакуум |
1.0E-6Pa 1.0E-4Pa (в течение 30 минут) |
|
Вакуум (осаждение) |
0,133 ~ 133 Па, регулируется в соответствии с процессом |
|
Мощность RF |
13,56 МГц, 500 Вт (автоматическое согласование) |
|
Управление потоком |
Массовый расходомер (Ar по умолчанию, 0 ~ 200 см3) |
|
Размеры |
1100 мм x 800 мм x 1100 мм |
Отказ от ответственности: информация о продукте (включая изображения продуктов, описания продуктов, технические параметры и т. Д.) Этого сайта только для справки. Поскольку обновление может быть не своевременным, между содержанием и реальной ситуацией будут некоторые различия. Пожалуйста, свяжитесь с нашим торговым персоналом для подтверждения. Информация, представленная на этом сайте, не является предложением или обещанием, и компания будет периодически улучшать и изменять информацию на сайте без предварительного уведомления, пожалуйста, поймите.