Машина плазменной очистки

0р.
Производители
Модель: CY-P2L
Склад Есть в наличии
Просмотров 368

Характеристики

  • RF смещение <0,2 кГц
  • Мощность RF 200 Вт
  • Рабочее напряжение 220 В переменного тока, 50 Гц
  • Степень вакуума 10-100 Па, с механическим насосом
  • Частота RF 40 кГц (13,56 МГц по желанию)

Описание товара

Машины плазменной очистки делятся на два типа: атмосферные и вакуумные; он широко используется в полупроводниках, печатных платах, медицинской диагностике, эластомерной промышленности, оптической промышленности и т. д.

Модель №.CY-P2L
наименование товараПлазменный очиститель 2 л
Дисплей

Сенсорный ЖК-контроллер

Рабочее напряжение220 В переменного тока, 50 Гц
Частота RF40 кГц (13,56 МГц по желанию)
Связанный режиммуфта конденсатора, без загрязненной пробы
Мощность RF200 Вт
RF смещение<0,2 кГц
Характеристический импеданс50 Ом, автоматическое согласование
Степень вакуума

10-100 Па, с механическим насосом

Если требуется высокий вакуум, выберите нашу систему турбонасоса.

(По желанию)

Скорость газа

Двусторонний поплавковый контроль потока газа 10-100 мл / мин, регулируемый

Контроль

Сенсорная панель ПЛК Управление программой Автоматический / ручной два режима для дополнительного

Размер внутренней камеры

 Камера из нержавеющей стали с Φ 100 * 270 мм

Если камеры недостаточно для использования, у нас есть Φ 150 * 270 мм (емкость: 5 л) 200 * 200 * 260 мм (емкость: 10 л) для дополнительного

Манометр

Для считывания оборудован простой цифровой манометр.

Если требуется высокоточное измерение вакуума, выберите цифровой вакуумметр:

(По желанию)

Способ охлажденияПринудительное охлаждение
Внешнее измерение440 * 390 * 200 мм
Общий вес35 кг
Время доставкиЧерез 10 рабочих дней после получения оплаты

Написать отзыв

Примечание: HTML разметка не поддерживается! Используйте обычный текст.
    Плохо           Хорошо
Защита от роботов


Наверх
Яндекс.Метрика