+7 (495) 646 49 88
с 9:00 до 20:00, zakaz@cykylab.ru
г.Долгопрудный, Промышленный пр-д, д.10
Атмосферный низкотемпературный плазменный очиститель

Атмосферный низкотемпературный плазменный очиститель

0 отзывов
0р.
Производители
Модель: Атмосферный низкотемпературный плазменный очиститель
Склад Есть в наличии
Просмотров 498

Характеристики

  • Вес (кг) 20
  • Входная мощность 220 В , 50/60 Гц
  • Мощность Регулируемый 1000 Вт
  • Размеры 560 Вт * 186D * 452 мм
  • Частота высокого напряжения 10-40 кГц

Описание товара

Преимущества атмосферного низкотемпературного плазменного очистителя:

Плазменная очистка является важным методом модификации поверхности материалов и широко используется во многих областях. По сравнению с некоторыми традиционными методами очистки, такими как ультразвуковая очистка, УФ-очистка и т. Д., Он имеет следующие преимущества:
(A) низкая температура обработки
Температура обработки может быть от 80 ℃ до 50 ℃. Низкие температуры обработки исключают термическое воздействие на поверхность образца.
(B) отсутствие загрязнения в течение всего процесса
Сам по себе плазменный очиститель является очень экологически чистым устройством, которое не вызывает каких-либо загрязнений и не вызывает никаких загрязнений во время процесса очистки. Его можно комбинировать с исходной производственной линией для достижения полностью автоматического онлайн-производства, что снижает затраты на рабочую силу.
(C) стабильный лечебный эффект
Эффект плазменной очистки очень однороден и стабилен, а обычный образец сохраняет хороший эффект в течение длительного времени после обработки.
(D) Его можно идеально сочетать с автоматизированными сборочными линиями для повышения эффективности производства.
В соответствии с требованиями пользователя к месту, оптимальная производственная линия конвейера настраивается для значительного повышения эффективности производства.
плазменный очиститель

Принцип работы атмосферного низкотемпературного плазменного очистителя:

Устройство плазменной очистки в основном разделено на три основных компонента: источник питания высокого напряжения возбуждения, пистолет-распылитель плазменного генератора и систему управления.
(A) Источник питания высокого напряжения возбуждения:
Для генерации плазмы требуется высоковольтное возбуждение, а атмосферная низкотемпературная плазма возбуждается источником питания промежуточной частоты с частотой 10-40 кГц. Высокое напряжение 4-10кВ. Параметры можно регулировать в соответствии с реальными условиями образца, и достигается оптимальный эффект модификации.
(B) Пистолет-распылитель плазменного генератора:
Пистолет-распылитель с генератором атмосферной низкотемпературной плазмы можно разделить на два типа: струйный прямой впрыск и роторный прямой впрыск, разница в том, что область обработки отличается.
(C) Система управления:
Функции системы управления - управление работой всего оборудования для атмосферной низкотемпературной плазменной очистки и защита всей системы.

Стандартные системные принадлежности

Размер оборудования

560 Вт * 186D * 452 мм

вес

20 кг

Входная мощность

220 В , 50/60 Гц

мощность

Регулируемый 1000 Вт

Частота высокого напряжения

10-40 кГц

Защита

Защита от перегрузки, защита от короткого замыкания, защита от разомкнутой цепи, защита от температуры

дистанционное управление

Доступны местное управление и дистанционное управление

Выбор пистолета-распылителя

Пистолет прямого распыления

2мм , 5мм

Пистолет-распылитель с роторным двигателем и магнитной подвеской

50 мм , 70 мм


Написать отзыв

Примечание: HTML разметка не поддерживается! Используйте обычный текст.
    Плохо           Хорошо
Защита от роботов


Наверх
Яндекс.Метрика