Система покрытия электронно-лучевым напылением

Вакуумная камера

500 × 500 × 600 мм2

Конфигурация вакуумной системы

Составной молекулярный насос, механический насос, задвижка

Максимальное давление

≤6. 67 × 10-5 Па (после запекания и дегазации)

Система восстановления вакуума

Оно может достигать 6,67 × 10 -4 Па за 45 минут (после кратковременного воздействия атмосферы и заполнения системы сухим азотом).

Источник электронно-лучевого испарения

Электронная пушка типа Е

Напряжение на аноде: 6 кВ 、 8 кВ;

Количество (комплект)

1

Тигель

Тигель с водяным охлаждением, четырехточечный дизайн, вместимостью 11 мл каждая

Мощность

0 ~ 6 кВт регулируемый

Источник испарения сопротивления (опция)

напряжение

5, 10В

Мощность

Ток 300А A максимальная мощность 3кВт

Количество

Один комплект, переключаемый

Электрод водяного охлаждения

Три корня составляют две испарительные лодки

Тип и размер рамы заготовки

Размер подложки: совместим с подложкой 4 ″

Максимальная температура нагрева подложки 800 ℃ ± 1 ℃

Подложка вращается непрерывно, скорость вращения: 5-60 об / мин.

Расстояние между подложкой и источником испарения регулируется от 300 до 350 мм.

Узел перегородки с ручным управлением: 1 комплект

Система газового контура

1-контурный регулятор массового расхода 200SCCM

Регулятор толщины пленки кварцевого резонатора 

Диапазон контроля толщины: 0 ~ 99u9999A;

Площадь

M айн Set

900 × 800 мм 2

Электрический шкаф

800 × 800 мм 2 (два)