+7 (495) 646 49 88
с 9:00 до 20:00, zakaz@cykylab.ru
г.Долгопрудный, Промышленный пр-д, д.10
Двухцелевой станок для нанесения покрытий с магнетронным распылением постоянного тока CY-MSP300S-2DC

Двухцелевой станок для нанесения покрытий с магнетронным распылением постоянного тока CY-MSP300S-2DC

0 отзывов
0р.
Производители
Модель: CY-MSP300S-2DC
Склад Есть в наличии
Просмотров 666

Характеристики

  • Вес (кг) 300
  • Мощность 2,5кВт
  • Напряжение питания 220 В переменного тока 50 Гц
  • Размеры 600 мм × 650 мм × 1280 мм

Описание товара

Двухцелевой станок для нанесения покрытий с магнетронным напылением постоянного тока оснащен двумя источниками питания постоянного тока мощностью 500 Вт. Источник питания постоянного тока можно использовать для изготовления металлической пленки. Эти две мишени могут удовлетворить потребности в многослойных или многослойных покрытиях.
Машина для нанесения покрытий оснащена двухканальным высокоточным массовым расходомером. Если у вас есть другие требования, вы можете настроить газовый тракт до четырехканальных массовых расходомеров в соответствии со сложными требованиями конструкции газовой среды. Прибор оснащен передовыми турбомолекулярными насосными агрегатами, предельный вакуум составляет до 1.0E-5Pa, другие типы молекулярных насосов доступны для покупки. Путь газа молекулярного насоса контролируется несколькими соленоидными клапанами, вы можете открыть камеру для отбора пробы, не выключая насос, что значительно повышает эффективность вашей работы. Этот продукт может быть оснащен встроенным промышленным компьютером для управления системой. В компьютерной программе можно реализовать большинство функций, таких как управление вакуумным насосом и управление мощностью распыления, что может еще больше повысить эффективность вашего эксперимента.

Применение двухцелевой установки для нанесения покрытий с магнетронным напылением постоянного тока:

Это устройство может быть использовано для изготовления однослойных или многослойных сегнетоэлектрических тонких пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов и т.п. По сравнению с аналогичным оборудованием, установка для нанесения покрытий методом магнетронного распыления с двумя мишенями не только широко используется, но также имеет преимущества небольшого размера и простоты эксплуатации, а также является идеальным оборудованием для изготовления пленок материалов в лаборатории.

Технические параметры двухцелевой установки для нанесения покрытий с магнетронным напылением постоянного тока:

Примерный этап

Размер

φ185мм

Температура нагрева

Макс 500 ℃

Точность температуры

± 1 ℃

Скорость вращения

1-20 об / мин регулируется

Головка для магнетронного распыления

Количество

2 дюйма × 2 (1 дюйм, 2 дюйма опционально)

Режим охлаждения

Водяное охлаждение

Охладитель воды

Чиллер с циркуляцией воды с расходом 10 л / мин

Вакуумная камера

Размер камеры

φ300 мм × 300 мм

Материал камеры

Нержавеющая сталь

Окно просмотра

φ100 мм

Режим открытия

Верхняя крышка открыта

Массовый расходомер

 2 канала; диапазон измерения 100SCCM; 100SCCM (можно настроить в соответствии с потребностями клиента)

Вакуумная система

Модель

CY-GZK103-A

Молекулярный насос

CY-600

Резервный насос

Пластинчато-роторный насос

Максимальный вакуум

1.0E-5 Па

Насосный интерфейс

KF40

Выхлопной интерфейс

KF16

Измерение вакуума

Составной вакуумметр

Источник питания

AC; 220 В 50/60 Гц

Скорость откачки

Молекулярный насос: пластинчато-роторный насос 600 л / с: 1,1 л / с  

Всесторонняя перекачка газа: вакуум до 1.0E-3Pa за 20 минут

Конфигурация мощности

Количество

Источник питания постоянного тока × 2

Максимальная выходная мощность

DC 500 Вт

Прочие параметры

Напряжение питания

220 В переменного тока, 50 Гц

Суммарная мощность

2,5 кВт

Общий размер

600 мм × 650 мм × 1280 мм

Общий вес

Около 300 кг

Написать отзыв

Примечание: HTML разметка не поддерживается! Используйте обычный текст.
    Плохо           Хорошо
Защита от роботов


Наверх
Яндекс.Метрика