Система CVD высокого вакуума с двумя зонами нагрева 1200 ℃ с 3-канальным массовым расходомером CY-O1200-50IIT-3Z-HV

Система химического осаждения из паровой фазы с двумя зонами нагрева 1200 ℃ состоит из трубчатой ​​печи с двумя зонами нагрева, трехканального поплавкового расходомера и молекулярного насоса высокого вакуума. Две зоны нагрева трубчатой ​​печи независимо регулируются температурой с помощью точного прибора контроля температуры. Регулируя температуру каждой температурной зоны, трубчатая печь может формировать два температурных градиента в зоне нагрева или формировать длинную зону постоянной температуры. Каждую зону можно редактировать с помощью 30 секций программы повышения и понижения температуры, с защитой от перегрева и короткого замыкания. Фланцы с обеих сторон трубы печи оснащены цифровым манометром и механическим манометром, которые могут использоваться для контроля атмосферы в трубе печи. В то же время, Трубчатая печь управляется с помощью цветного сенсорного экрана высокой четкости, который прост в использовании. Даже непрофессионалы могут освоить использование прибора после простого обучения, что может значительно повысить эффективность вашего эксперимента.

Система также оснащена прецизионным молекулярным насосом, который может достигать уровня вакуума 1.0E-3pa, что может предоставить пользователям более чистую и более строгую экспериментальную среду, чем обычные механические насосы.

Применение системы CVD с высоким ваку​умом с двумя зонами нагрева 1200 ℃:

Он подходит для высокотемпературного спекания, отжига металлов, контроля качества и т. Д. В университетах, научно-исследовательских институтах, промышленных и горнодобывающих предприятиях, особенно для экспериментов CVD, требующих различных сред смешения газов.

Технические параметры системы CVD с двумя зонами нагрева 1200 ℃: